關於ASML

晶片微影技術與市場領導者

/zh-tw/technology

你不可不知的科技公司

ASML為引領全球半導體產業創新的領導者,為全球晶片製造商提供全方位的微影系統、軟體與服務,來進行晶片量產

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個國籍

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個據點遍佈16個國家

願景與使命

我們相信科技會讓世界更好


艾司摩爾希望將半導體技術推展至全世界每一個角落,幫助克服人類社會中各種最艱難的挑戰。為了達成這個願景,ASML開發最先進的產品與服務,幫助客戶持續提升晶片價值、降低晶片成本

我們的團隊

讓你的工作更有意義



加入一個能改變世界的科技公司


科技讓世界變得更好。科技連結了彼此,改變了人類的生活、工作及娛樂。而正是ASML的技術讓這些科技成真。日常生活中,你所使用的消費性電子產品,其核心晶片幾乎都是ASML微影系統所製造出來的。


ASML為全球頂尖晶片製造商提供全方位的產品和服務,助其生產更高效且更低價的晶片。簡而言之,ASML是幫助半導體產業領導者獲致成功的關鍵。


ASML的總部位於荷蘭恩荷芬,為歐洲的科技重鎮。ASML的營運遍及歐洲、亞洲和美國,在全球16國設有60個據點。

加入ASML



歡迎加入ASML這個全球化的大家庭,親身體驗以創造力聞名、尊重多元性,並且充滿活力的工作環境。


在ASML,你可以盡情提出各種好點子並付諸實踐。你將在自己的專業領域中擁有自由和彈性、信任和支持,讓你可以嘗試並解決複雜的技術挑戰。ASML是持續創新的企業,在這裡,每天都有新點子和新鮮事。


儘管ASML位處步調緊湊的科技發展前線,我們依然非常重視你的工作生活平衡。ASML視員工為寶貴的資產,我們相信與員工共好,企業才會成功。

我們的技術

微影創新 改變世界

微影就是用光將電路設計圖微縮投印在矽晶片上 — 這是量產晶片時最重要的步驟。

微影技術如何運作

微影系統本質上是一個投影系統,利用光線穿透印有電路圖的光罩,在矽晶片上投印出電路圖。

光罩上的電路圖是實際在晶片上呈現圖案的4倍大。


透過光線投射出光罩上的圖案,微影系統中的光學器件會微縮並將圖案聚焦到感光的矽晶圓上。當圖案印好之後,系統會稍微移動晶圓,並在晶圓上進行另一次複製。

EUV 極紫外光微影技術

ASML是全世界唯一採用極紫外光的微影設備製造商。為了能控制EUV極紫外光光源,並推動EUV微影系統商用化,20多年來,ASML持續投入研發,克服各種艱難的技術挑戰。

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我們也正在發展具備更高數值孔徑 (0.55) 的下一代High-NA EUV平台,擁有新穎的光學設計和速度更快的載台,可使幾何式晶片微縮(Geometric Chip Scaling) 大幅躍進,其所提供的分辨率和微影疊對 (Overlay) 能力優於現有EUV平台達70%。

DUV深紫外光微影技術

我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案,幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。


ASML的浸潤式和乾式微影系統能在量產的狀態下,展現獨步業界的優異生產力,以及成像和微影疊對效能,幫助客戶量產最先進的邏輯和記憶體晶片。

量測及檢測技術

我們的量測解決方案可以快速測量矽晶圓上的成像表現,並及時回傳數據給微影系統,以確保在量產晶片的狀態下能維持穩定的微影效能。我們的檢測系統則有助於在數十億個圖案中,定位和分析單個晶片缺陷。

軟體技術

如果我們的硬體創新為超級英雄蝙蝠俠,那我們的軟體就是他的得力助手羅賓。雖然ASML通常被定位為硬體公司,然而實際上我們擁有全世界規模最大、最先進的軟體團隊之一。若沒有軟體,ASML的微影系統幾乎不可能在持續微縮的尺寸下生產晶片。

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因此,ASML的全方位微影方案是高科技硬體和先進軟體的完美混和體。我們的研發團隊將持續進行跨界程式設計,針對影響晶片製造的棘手問題,提供創新的解決方案。

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