Im Inneren einer ASML EUV-Anlage wird es ziemlich heiß - heißer als auf der Sonnenoberfläche. Entdecke die Technologie, an der du bei ASML in Berlin arbeiten kannst.
Vielleicht hast du schon von der EUV-Lithografie gehört, einer Technologie, die es nur bei ASML gibt. Aber wusstest du, dass sie extremes ultraviolettes (EUV) Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern verwendet?
Dieses Licht kommt natürlich nur im Weltraum vor. Aber um EUV-Licht hier auf der Erde zu erzeugen, enthalten unsere Systeme eine lasererzeugte Plasmaquelle (LPP).
Hier siehst du, wie EUV-Licht in einer ASML Anlage erzeugt wird:
- Winzige geschmolzene Zinntröpfchen schießen mit 70 Metern pro Sekunde aus einem Generator.
- Ein Laserpuls mit geringer Intensität flacht sie in eine Pfannkuchenform ab.
- Ein stärkerer Laserpuls - heißer als die Sonnenoberfläche mit einer Temperatur von etwa 500.000 K - verdampft die Blechpfannkuchen. Dadurch entsteht ein Plasma, das EUV-Licht aussendet.
- Um genügend Licht für die Herstellung von Mikrochips zu erzeugen, wird dieser Vorgang 50.000 Mal pro Sekunde wiederholt.
Wie funktioniert EUV?
Erkunde das Innere des weltweit modernsten Lithografiesystems. Achte besonders auf die Wafer Stage. Hier findest du eine der Schlüsselkomponenten, die wir in Berlin herstellen.
Lichtquelle
Optische Säule
Reticle
Vakuumkammer
Wafer-Handling
Wafer Stage
Bist du bereit, mit Laserpräzision zu arbeiten?
